Cassification
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產(chǎn)品展示/ Product display
氧化鈷濕法分散研磨機需要加入液體介質(zhì)中分散應用,氧化鈷+液體介質(zhì)+分散劑采用XMD2000系列研磨分散機進(jìn)行研磨分散,解決團聚問(wèn)題,更均勻的分散,并進(jìn)一步細化粒徑,一般分散后粒徑為D90小于1微米,分散效果好,效率高。
2023-11-12
生產(chǎn)廠(chǎng)家
2109
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